Planar Tantalum Sputtering Sasaran

Planar Tantalum Sputtering Sasaran

Dimensi: mengikut lukisan atau sampel
Standard: ASTM B 708/365
Kaedah pemprosesan: Pemesinan CNC
Keadaan permukaan: tanah atau digilap
Permohonan: untuk industri salutan semikonduktor dan optik
Hantar pertanyaan
Description/kawalan
Parameter teknikal
Ta spesifikasi dan dimensi bahan sasaran

 

Spesifikasi: Diameter: 180.00mm
Toleransi diameter ±0.10mm
Ketebalan: 18.00mm
Toleransi ketebalan ±0.10mm


Kelebihan sasaran ta kami:
1. Bahan ketulenan tinggi
Bahan terpilih yang berkualiti tinggi
2. Pelbagai spesifikasi
Pelbagai spesifikasi boleh disesuaikan
3. Rawatan permukaan
Penggilapan permukaan dan pengisaran

 

Aplikasi
Sasaran Tantalum mempunyai ciri-ciri rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, kekonduksian yang baik, dan keupayaan untuk membentuk filem penghalang. Ia digunakan terutamanya dalam pelbagai paparan panel rata, komunikasi optik, optik, TFF, salutan semikonduktor dan industri lain.

 

Ta komponen berkaitan sasaran

 

Gred

3N, 3N5, 4N, dengan Ta 99.99%min

Saiz bijirin

ASTM 4 atau lebih halus

Kemasan permukaan

16Rms maks. atau Ra 0.4 ( RMS64 atau lebih baik)

Kerataan

{{0}}.1mm atau 0.15% maks

Toleransi

+/-0.010" pada semua dimensi

 

Kawalan kualiti produk Zhenan

 

1. Memastikan semua barangan menjalani pemeriksaan ketat semasa proses pengeluaran

2. Semua barangan mesti diperiksa dengan ketat sebelum pembungkusan.

3. Setiap kumpulan barangan diperiksa semula sebelum penghantaran.

 

Lawatan pelanggan dan persekitaran syarikat

 

ta sputtering target company

Tantalum sputtering target company

Kilang kami adalah profesional dan boleh dipercayai, kami bekerja keras dan melayan pelanggan dengan sabar, membolehkan pelanggan benar-benar mengalami perkhidmatan baharu yang meyakinkan, bertimbang rasa dan bebas kebimbangan.