Bahan sasaran tantalum dan kaedah penyediaannya
Kaedah pembuatan asas ialah serbuk tantalum ketulenan tinggi mula-mula disinter ke dalam blok, dan kemudian melalui relau lebur rasuk elektron vakum tinggi untuk mendapatkan jongkong tantalum ketulenan tinggi, dan kemudian jongkong tantalum berulang kali cacat plastik dan disepuhlindap untuk mendapatkan butiran seragam dan tekstur dalaman tertentu. Sasaran Tantalum kosong, kosong sasaran dikimpal pada plat belakang dan dimesin kepada produk akhir. Dalam kaedah pembuatan sedemikian, serbuk tantalum ketulenan tinggi perlu disinter ke dalam blok terlebih dahulu, kemudian dileburkan menjadi jongkong oleh rasuk elektron vakum tinggi, dan kemudian berulang kali plastik cacat dan anil untuk akhirnya mendapatkan bahan yang boleh digunakan dalam pengeluaran sputtering semikonduktor. sasaran. sasaran kosong.
Spesifikasi sasaran Tantalum
|
Parameter |
Nilai Biasa |
||||||
|
Komposisi |
Bahan Sasaran Sputtering Tantalum |
||||||
|
Kesucian |
4N-5N-6N Sila hubungi penjual |
||||||
|
Ketumpatan (g/cm³) |
Sila hubungi penjual |
||||||
|
kerintangan (Ω·cm) |
-- |
||||||
|
Dimensi (mm) |
disesuaikan. |
||||||
|
Permohonan: Filem Nipis, Semikonduktor, hiasan dan sebagainya |
|||||||
kelebihan kami
1. Keupayaan R&D yang kukuh
2. Lebih daripada 30 tahun pengalaman dalam R&D dan pengeluaran produk logam
3. Perusahaan milik negara, kredit yang baik, kekuatan kewangan yang kukuh
4. Perkhidmatan sehenti untuk semua jenis logam refraktori dan logam nadir
5. Pasukan jualan profesional, perkhidmatan sepenuh hati.
Lawatan pelanggan dan persekitaran syarikat
Kilang kami adalah profesional dan boleh dipercayai, kami bekerja keras dan melayan pelanggan dengan sabar, membolehkan pelanggan benar-benar mengalami perkhidmatan baharu yang meyakinkan, bertimbang rasa dan bebas kebimbangan.