Kelebihan teknikal sasaran sputtering zirkonium
1. Kualiti filem
Ketulenan tinggi dan keseragaman filem nipis zirkonium
Melalui teknologi magnetron sputtering, sasaran zirkonium boleh menghasilkan filem nipis ketulenan tinggi dan keseragaman tinggi.
2. Kestabilan prestasi
Prestasi stabil dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis
Filem nipis zirkonium berprestasi baik dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis serta boleh mengekalkan prestasi yang stabil untuk masa yang lama.
3. Jimat
Prestasi cemerlang dan jangka hayat sasaran zirkonium yang panjang menjadikannya sangat kos efektif dalam penggunaan jangka panjang.
4. Inovasi teknologi
kelebihan kami
1. Harga yang kompetitif.
2. Kelebihan kami adalah lebih tinggi daripada pembekal lain.
3. Harga yang sama, kualiti yang boleh dipercayai.
4. penghantaran tepat pada masanya mengikut keperluan anda.
5. Perkhidmatan profesional, sangat mengurangkan kos perolehan.
Pelbagai parameter sasaran sputtering zirkonium
|
Nama Produk
|
Kesucian
|
Ketumpatan
|
Kaedah Pemprosesan
|
Keadaan Permukaan
|
|
HP
|
|
|||
|
Sasaran ZrB2
|
3N
|
Ketumpatan relatif: 80% min.
|
Persekitaran syarikat dan lawatan pelanggan
Kami berharap dapat bekerjasama dengan anda. Jika anda mempunyai sebarang pertanyaan atau keperluan mengenai produk dan perkhidmatan kami, sila hubungi kami.